MX 2012

用于 300 毫米硅晶片的高精度芯片生产⼏何测量仪。

MX2012 可作为手动装载的独立工作站使用,每小时至少可生产 50 块硅片。它有 69 个测量点,能以高分辨率控制厚度、弯曲度和翘曲度。还可选配晶圆应力评估功能。直立位置测量可避免重力引起的下垂。系统可转换为 200 毫米晶片测量系统。


测量类型

厚度 平整度(TTV) 弯曲度 翘曲度

特性

晶片直径 300 mm
精度 ±0.5 µm
分辨率 50 nm
厚度范围 500–1000 µm
自动晶片⼏何测量仪 是
软件 MX-NT
经纱特性 经重力校正的

哪种工具
符合我的需求?

您有问题、愿望或订单?
我们很乐意为您提供咨询。

E+H Metrology 承诺保护和尊重您的隐私。我们仅将您的个人信息用于管理您的账户以及提供您所要求的产品和服务。

彼得-米歇尔

+49 (0)721 83118-17
sales(at)eh-metrology.com

 

向下滚动,查看更多信息