MX 203-58-37-B

用于 125、150 和 200 毫米硅晶片的高分辨率厚度、平面度、弯曲度和翘曲度测量仪 ➜ 高产能:8 秒内完成测量

用于 125 至 200 毫米薄硅晶片的快速非接触式⼏何测量仪。高产能:MX203-58-37-B 的 37 个测量点可在最多 8 秒内测量每个晶片。它可以控制背面研磨后的厚度、弯曲度和翘曲度。通过不同的中心框架灵活调整晶片尺寸。配有功能强大的MX-NT 操作软件。


测量类型

厚度 平整度(TTV) 弯曲度 翘曲度

特性

晶片直径 125 mm, 150 mm, 200 mm
精度 ±2.0 µm
分辨率 75nm
厚度范围 200–800 µm
自动晶片⼏何测量仪 无
软件 MX-NT
经纱特性 SORI

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